1、Hielscher超聲波均質(zhì)機(jī)UP400St概述

UP400St超聲波處理器已開發(fā)用于實(shí)驗(yàn)室；使用區(qū)域和兩個(gè)超聲波處理器的操作是相同的。

超聲波換能器使用電激勵(lì)產(chǎn)生超聲波，并將其轉(zhuǎn)移到液體介質(zhì)通過各種聲極。超聲波處理器安裝在支架上進(jìn)行操作

2、UP400St超聲波均質(zhì)機(jī)目的

•液體的分解或均質(zhì)

•強(qiáng)化清潔平坦基底

•FIA

3、UP400St超聲波均質(zhì)機(jī)操作介質(zhì)

•液體介質(zhì)的聲輻射

•或液體浴中固體介質(zhì)的聲輻射

•或特殊容器中固體介質(zhì)的聲輻射。

4、UP400St超聲波均質(zhì)機(jī)結(jié)構(gòu)

超聲波處理器

喇叭

Sonotrode

電源開關(guān)

顯示器

三腳架

按鈕啟動(dòng)/停止

局域網(wǎng)

溫度傳感器

SD卡

風(fēng)扇

三腳架孔

5、Hielscher超聲波均質(zhì)機(jī)UP400St原理

超聲波處理器通過頻率為24kHz的電激勵(lì)（反向壓電效應(yīng)）產(chǎn)生縱向機(jī)械振動(dòng)。處理器的功率輸出可以在最大輸出的20%到100%之間無級(jí)調(diào)節(jié)

振動(dòng)由安裝在喇叭上的超聲極放大，并形成?/2振動(dòng)器，并通過其端面轉(zhuǎn)移到待超聲輻照的介質(zhì)上。如果使用UP400St超聲波處理器，則要進(jìn)行聲輻射的介質(zhì)可以是特殊容器中的液體或固體/顆粒物質(zhì)。

超聲波在液體中引起空化，空化可用于各種目的，例如崩解、均化和清潔

固體可以放置在液體中進(jìn)行聲輻射，從而使液體將超聲波轉(zhuǎn)移到材料的表面（例如用于去除油漆）。

6、UP400St超聲波均質(zhì)機(jī)用途

您可以在脈沖控制模式下將溫度敏感的樣品暴露在高強(qiáng)度超聲波下。非操作和聲輻射之間的脈沖模式因子可以在10%和100%之間連續(xù)變化

聲化學(xué)

超聲波處理器可用于標(biāo)準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)室容器中的聲化學(xué)。這方面的先決條件是根據(jù)要進(jìn)行聲輻射的介質(zhì)和超聲焊極尺寸。

生物、醫(yī)學(xué)和化學(xué)實(shí)驗(yàn)室

UP400St超聲波處理器可用于實(shí)驗(yàn)室，例如執(zhí)行以下任務(wù)：

•液體的分解或均質(zhì)

•精細(xì)篩選顆粒物質(zhì)

•強(qiáng)化清潔平坦基底

•生物化學(xué)FIA

其他使用領(lǐng)域

進(jìn)一步的使用領(lǐng)域是可行的，并且取決于可用的超聲焊極。

超聲波處理器在液體中的應(yīng)用

超聲波處理器只能在液體中使用或與液體一起使用，以便將超聲焊極浸入液體的深度不大于相應(yīng)超聲焊極類型的最大浸沒深度，或者位于液體上方幾毫米處（液體的霧化）。

7、UP400St超聲波均質(zhì)機(jī)技術(shù)規(guī)范

超聲波處理器UP400St

效率>90%

工作頻率24 kHz

控制范圍500 Hz

輸出控制20%?100%，以1%的步長(zhǎng)

脈沖占空比10%-100%，以1秒為單位，步長(zhǎng)為0.1%-100%——連續(xù)運(yùn)行

最大振幅可達(dá)200µm Pk Pk，具體取決于聲極

最大能量密度高達(dá)300 W/cm2，具體取決于超聲波焊極

電氣數(shù)據(jù)

連接負(fù)載230 V AC、50/60 Hz 110 V AC、50/50 Hz

保險(xiǎn)絲（初級(jí)、內(nèi)部）電源電壓230 V：4 A  110 V：8 A

電源波動(dòng)? 10%

可用/標(biāo)稱輸出400 W，具體取決于超聲波焊極